SEM掃描電鏡（Scanning Electron Microscope）即掃描電子顯微鏡，是一種使用電子進行成像的顯微鏡，其成像模式多樣，能夠提供關于材料表面形貌、化學成分和物理性質的不同信息。以下是對掃描電鏡常見成像模式的介紹：

一、次外殼成像模式（SEI）

原理：通過探測樣品下方產生的二次電子和表面的次電子來形成所謂的次表面成像。

應用：SEI模式可用于研究樣品表面的形貌特征，例如表面粗糙度、形態(tài)等。

二、高角度底層成像模式（BSE）

原理：BSE信號主要來源于高能電子與樣品中的原子作用，尤其是高原子序數物質更散射的電子以及穿透的電子多，因而成像亮度相對較高。

應用：BSE模式可以觀察到帶有原子序數反比于信號強度的圖像，用于研究材料表面顯微組織結構的表征。

三、散射電子成像模式（SED）

原理：散射電子成像可能是從樣品中發(fā)出的慢電子（低能散射）或快電子（高能散射），這些電子的強度反比于原子序數。

應用：SED模式可以顯示材料組織結構、缺陷、晶界面等信息。

四、反射電子成像模式（RSE）

原理：反射電子成像是通過改變電子束的入射角度，使其傾斜到樣品垂直方向，使得電子束的高能電子被反射回來，從而得到自然的反相成像。

應用：RSE模式用于材料表面缺陷的直接觀測。

五、掃描透射模式（STEM）

原理：STEM是SEM掃描電鏡的一種**成像技術，可以呈現出與掃描電鏡圖像不同的信息。STEM成像包括明場像（BF）、暗場像（DF）以及高角度環(huán)形暗場像（HAADF）。

應用：STEM模式能夠觀察到隱藏在3D結構中的小顆粒，以及樣品的厚度和成分差異等。它在材料科學、納米科技等領域具有廣泛的應用。

綜上所述，SEM掃描電鏡的成像模式多樣，每種模式都有其獨特的原理和應用場景。這些成像模式為科學研究和實踐應用提供了更加豐富和有效的手段，廣泛應用于材料科學、納米科技、生物科學、環(huán)境科學等多個領域。